Intel hat den Ausbau des D1X getauften Forschungshalbleiterwerks im US-Bundesstaat Oregon für 3 Milliarden US-Dollar abgeschlossen. Die neuen Reinräume stellen eine Fläche von gut 250.000 Quadratmetern bereit und sind höher gebaut als bisher, damit künftig größere Belichtungsmaschinen hineinpassen, die Intel und andere Chipfertiger wie TSMC oder Samsung ab 2025 benötigen.
Intel: Mit High-NA-Chipfertigung zur Marktführung
